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分子束外延系统的组成说明
日期：2025-05-01 09:30
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摘要：
分子束外延（MBE）是一种灵活的外延薄膜技术，可以表述为在超高真空环境中通过把热蒸发产生的原子或分子束投射到具有一定取向、一定温度的清洁衬底上而生成高质量的薄膜材料或各种所需结构。晶体生长受分子束相互作用的动力学过程支配，而异于常规的化学气相淀积(VPE)和液相外延(LPE)中的准热力学平衡。随着MBE技术的发展，出现了迁移增强外延技术（MEE）和气源分子束外延（GS-MEE）技术，近年来又出现了激光分子束外延技术。
分子束外延系统主要由一个预处理室、一个过渡室和一个生长室组成。预处理室用于完成衬底的进样，以Si衬底为例，在进样室装样，等待约1.5小时后进样室真空小于10-8Torr，再传入过渡室内，在400℃下进行1小时预除气，然后传送入生长室；在生长室中主要完成样品的高温脱氧和缓冲层的外延过程。进样室和过渡室的真空维持靠溅射离子泵，极限真空度可以达到10-10Torr，而生长室的真空维持靠低温吸附泵、溅射离子泵和液氮冷阱，极限真空能到10-11 Torr。
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